Estudo da deposição química de Níquel em Microeletrônica PDF
Angelo Eduardo Battistini MarquesNeste trabalho mostramos o estudo e a caracterização de diversos processos de deposição química autocatalítica de níquel para aplicações em microeletrônica e nanotecnologia. São mostrados processos de deposição química por diversas técnicas, bem como os resultados de análises de composição química, rugosidade superficial e espessura de filmes de Níquel e ligas Níquel-Fósforo pelas técnicas de RBS, AFM, TRXFA. Também é mostrada a caracterização elétrica de capacitores MOS construídos com essa técnica de deposição.
a deposição química por vapor {Chemical Vapor Deposition - CVD). Todas elas possuem um alto controle sobre os parâmetros da experiência tais como a taxa de deposição (velocidade em que o filme cresce) e a espessura do depósito. Porém, a implementação destas técnicas exige equipamentos de alto custo e um sistema de vácuo,
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A deposição da liga acontece através da reação química ou autocatalítica entre os agentes dissolvidos (Sulfato de Níquel + Hipofosfito de Sódio) em solução aquosa, quando a peça é imersa nesta solução após pré-tratamento apropriado ,todas as suas superfícies são revestidas com camadas totalmente uniformes da liga de níquel
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